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17/4/2001:
Avances para los futuros chips de 10 GHz o más
Al fin ha aparecido el primer prototipo de máquina para fabricar chips mediante litografiado con luz ultravioleta (en forma de láser de flúor), lo que permitirá la creación de procesadores decenas de veces más rápidos y memorias de mucha mayor capacidad de lo que estamos acostumbrados hoy en día.
La cuestión radica en que con la tecnología actual, se espera llegar como mucho hasta las 0,1 micras (cuando compañías como VIA fabrican ya componentes con escalas de integración de 0,15 a 0,13 micras, siendo lo más habitual las 0,18 micras). La nueva tecnología permitiría llegar a imprimir circuitos con una densidad de integración entre 0,07 y 0,03 micras.
Detrás de este prototipo se encuentran, ni más ni menos que el gobierno estadounidense (a través de los laboratorios Lawrence Berkeley National Laboratory, Lawrence Livermore National Laboratory y Sandia National Laboratories, en California, todos ellos del departamento de energía), y un consorcio de compañías llamado EUV LLC (en el que se encuentran Intel, Motorola, AMD, Micron, Infineon e IBM).
Sin embargo, planean aún ciertas dudas y queda bastante trabajo de ingeniería; tal vez hacia el año 2005 llegue a ser una realidad en las fábricas de chips. Y no es el único proyecto en marcha, ya que los fabricantes de maquinaria japoneses (Canon y Nikon, principalmente) ven con suspicacia un programa tan "Made in USA"...
Más información en:
www.intel.com/pressroom/archive/releases/20010411tech.htm
www.eetimes.com/story/industry/semiconductor_news/OEG20010413S0042
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Noticia redactada por: Miquel Tarazona